乙撑硫脲

N在酸性镀铜工艺中具有良好的整平光亮效果，和M一样可以在较宽的温度范围内镀出整平性，韧性、硬度良好的镀层；加入极少量便可获得优异的效果；适用于五金电镀、线路板电镀、硬铜电镀、电解铜箔等工艺。消耗量： 0.01-0.05g/KAH。

 

注意点：

N与SPS、M、P、AESS、PN、GISS等中间体合理搭配，组成无染料型酸铜光亮剂，N建议工作液中的用量为0.0002-0.0004g/L，N含量过低时镀层的光亮度整平性均会下降；N含量过高时镀层会产生树枝状光亮条纹，一般可加入SPS或活性炭吸附电解处理。

 

注意点：

N与SH110、SPS、M、P、SLP、SLH等中间体合理搭配，组成性能优良的线路板酸铜添加剂，N建议工作液中的用量为0.0001-0.0003g/L，N含量过低时镀层的光亮度整平性均会下降，镀层发白；N含量过高时镀层会产生树枝状光亮条纹，一般可加入SP或活性炭吸附电解处理。

 

注意点：

N与SPS、SH110、PN、M、H1、AESS等中间体合理搭配，组成双剂型硬铜电镀添加剂，N通常放入在硬度剂中，建议工作液中的用量为0.01-0.03g/L，N含量过低时铜层硬度下降，镀层发白；N含量过高时镀层会产生树枝状光亮条纹，铜层产生脆性，一般可加入SP或活性炭吸附，电解处理。

 

注意点：

N与SPS、QS、P、FESS等中间体合理搭配，组成电解铜箔添加剂，N建议工作液中的用量为0.0001-0.0003g/L，N含量过低，铜箔层亮度差吗，易卷曲，；N含量过高，铜箔层发花，需降低使用量。